4Wave4Wave离子束刻蚀/沉积

产品概述 4Wave成立于2000年，主要人员及技术均源于美国著名的离子束技术公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收购后，其主要的技术及管理高层离开Commonwealth后，重新组建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究与应用离子束技术，主要产品为基于离子束技术的薄膜沉积及刻蚀系统，客户群覆盖大学、国防军工、先进技术公司等领域。

4Wave领先技术

1. 低能高束流离子源

2. 偏压靶离子束沉积

3. 低能量的精准离子束刻蚀 产品特点 离子束刻蚀

1. 真空锁结构可选

2. 单片或行星式装置

3. 射频ICP离子源

4. 刻蚀终点监测 - 二次离子质谱仪

5. 基于PC+PLC的自动化控制系统架构

离子束沉积

1. 真空锁结构可选

2. 多靶自动选择

3. 射频ICP离子源

4. 辅助沉积/表面预清洗离子源

5. 晶振和光学膜厚测量

6. 偏压靶技术可选 技术参数