供应绝缘刻线机

SEF-J：绝缘刻线机 产品特点：龙门式结构，两维分离（或两维一体）；半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器；伺服电机（或直线电机）驱动；两路或四路同步输出；自动跟踪定位；自动上下料（选配） 技术参数： 型号规格：SEF-J 有效加工幅面：1.1×1.4m（或635mm×1245mm） 刻线速度：800～1000mm/s 重复定位精度：±10μm 刻线直线度：±10μm / 1000 mm 刻线宽度：50～80μm 应用和市场：薄膜太阳电池的绝缘隔离线的刻划加工，将所有膜层一次性刻划干净，重新隔离形成独立绝缘的小块电池阵列。