供应LKBTDCLD-900DCLD-900 磁控平面靶镀膜机

1.特点：配置先进大功率磁控电源，恒流输出，克服靶中毒。可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。参数型号数量真空室结构立式前开门，双层或冷却槽冷却真空室尺寸Ф900×10001抽气速率１×105Pa~3×10-3Pa≤15min极限真空≤8×10-4Pa系统配套维持泵2X-151机械泵2X-701扩散泵KT-5001罗茨泵ZJP-3001工件系统工件系统 行星式公自转形式（转轴数量8轴，可自定数量）8加热方式边缘安装不锈钢加热管加热4离子轰击20KW逆变偏压PLS-20KW1磁控靶数量平面靶2磁控电源20KW磁控电源MS-20KW2工作方式PLC半自动控制或PC+PLC全自动控制方式工作气体Ar N2 O2总功率45KW压缩空气0.4~0.8MPa水冷系统水压/水温：≤25℃/≥0.25MPa(用户自备)2.性能：该系列设备主要是使用直流磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料，利用溅射工艺进行镀膜

3.应用范围：应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。