氮化硅压力烧结炉

SIP氮化硅压力烧结炉

用途

产品广泛用于：稀土,电子照明,宝石,钢铁,陶瓷,微电子,特种合金,人工晶体,磁性材料,精密铸造,金属热处理等各行业。

简介：

烧结热等静压（Sinter-HIP）技术，简称S-HIP（SIP），等静压烧结技术，也称之为低压烧结或过压烧结，这种工艺方法是将脱蜡、预烧、真空烧结、热等静压制几个工艺合为一道工艺在一个设备内完成的新方法。它是由热等静压技术演变过来的。

型号规格：产品

型号加热元

件材质设备

形式

充气压力

（Mpa）有效

工作区（mm）加热

温度（℃）

工作

温度

（℃）加热

功率

（KW）冷态

极限

真空度

（Pa）JLSgr-40-2000 石墨立式 10Φ100×120200018004010JLSgr-100-2000 石墨立式 10Φ200×2502000180010010JLSgr-200-2300 石墨立式 10Φ300×5002300220020010JLSgr-240-2000 石墨立式 10Φ400×8002000180024010JLSgr-280-2000 石墨立式 10Φ500×10002000180028010