优仕锦企业管理(北京)有限公司
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2023年08月30日 12:13
无掩膜曝光机 型号 DS-2000/1.0型 1.技术特征 采用DMD作为数字掩模,像素1024×768 采用1倍缩小投影光刻物镜成像,一次曝光面积约14mm×10mm 采用技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接, 可适应100mm×100mm基片。
2.技术参数 光源:350W球形汞灯(曝光谱线: i线); 照明均匀性:±2%; 物镜倍率:1倍 曝光场面积:14mm×10mm 光刻分辨力:14μm 工件台运动范围:X:100mm、 Y:100mm; 工件台运动定位精度:±1.5μm; 调焦台运动灵敏度:1μm; 调焦台运动行程:6mm 转动台行程:±6°以上 基片尺寸外径: Ф15mm—Ф100mm, 厚度:0.1mm--5mm 3.外形尺寸:840mm(长)×450mm(宽) ×830mm(高)
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