吴江离子交换设备

电子半导体行业高纯水设备 水质要求

微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清�窗氤善贰⒊善贰＜傻缏返募啥仍礁撸运实囊笠苍礁撸庖捕猿克砉ひ占安返募蛞仔浴⒆远潭取⑸牧浴⒖沙中缘忍岢隽烁友细竦囊蟆Ｖ泄缱庸ひ挡康缱蛹端始际醣曜挤治寮叮�18MΩ·CM、15 MΩ·CM、10 MΩ·CM、2 MΩ·CM 、0.5 MΩ·CM），具体指标请参考电子级水质技术标准。

典型工艺流程

●预处理→一级反渗透系统→PH调节装置→中间水箱→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→用水对象【电阻率≥0.5MΩ·CM】

●预处理系统→反渗透系统→纯水箱→纯水泵→体内再生混床→精密过滤器→用水对象【传统工艺，电阻率≥2MΩ·CM】

●预处理系统→反渗透系统→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→用水对象【≥10-15 MΩ·CM，荐新工艺】

●预处理→双级反渗透系统→RO纯水箱→纯水泵→抛光混床→用水对象【电阻率≥2-10MΩ·CM】

●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→用水对象【≥15-17 MΩ·CM，推荐新工艺】

●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→抛光混床→微孔膜过滤器→用水对象 【≥18 MΩ·CM，工艺】

典型案例

额定产量：500升/小时 额定产量：3吨/小时 产水水质：电阻率≥0.5MΩ·CM 产水水质：电阻率≥5MΩ·CM 采用工艺：双级反渗透 采用工艺：反渗透+体内再生混床 典型用户：苏州天瑞电子 典型用户：无锡三达电子 应用范围：电子产品清洗 应用范围：电子元器件清洗

额定产量：3吨/小时 额定产量：2吨/小时 产水水质：电导率≤3μs/cm 产水水质：电阻率≥15 MΩ·CM 采用工艺：双级反渗透 采用工艺：双级反渗透+EDI 典型用户：江苏达科电子 典型用户：江苏海德旺斯 应用范围：高能电子 应用范围：光伏新材料