江苏光刻版 苏州制版

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

写入Mask的时间跟精度要求相关，根据Tennant定律，单位面积上光罩的写入时间跟精度的五次方成正比。2010年之前，那时制程刚刚发展到45nm，一套光罩的写入时间在6小时之内。随着制程技术的发展，自2011年起，光罩写入时间以每年25%递增，如今14nm光罩的写入时间就需要20小时，到了7nm甚至需要50小时以上。光罩写入时间长，产出慢，制约了光罩技术的发展，而打破写入时间这一瓶颈，需要Multi-Beam的新技术。

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为了避免掩模对要蒸发的衬底造成损坏，通常在掩模上设置保护膜，并且保护膜由有机材料制成。当保护膜接触要蒸发的基板时，保护膜对要蒸发的基板造成的损害小于掩模对要蒸发的基板造成的损害。

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为了制造一款芯片需要几百道工序，光罩也是不只一张的，在14nm工艺制程上，大约需要60张光罩，7nm可能需要80张光罩甚至更多。当然光罩的品质要求是不同的，对于某些对精度要求很高的工序，相对应的光罩对精度的要求时的，比如晶体管相关的光罩， 而对精度要求不那么高的工艺，比如Pad（打线孔）等要求就低一些，光罩价格也便宜一些。

先进制程对光罩精度的要求越来越高，同时不能有缺陷，所以光罩制造后的检查（Inspection）也很重要。

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