玻璃板 光刻版

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

去胶刻蚀或离子注入之后，已经不再需要光刻胶作保护层，可以将其除去，称为去胶，分为湿法去胶和干法去胶。

光刻的优点

1、地控制形成形状的大小和样子

2、它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。

缺点

1、 必须在平面上使用，在不平的表面上效果略差；

2、 对生产环境的清洁度要求极高！

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

图形扩展和收缩即从栅极开始的尺寸操作，例如栅极处的注入层尺寸扩大了。除了对应于电路的图案之外，玻璃板，完整的光掩模图案还包括一些辅助图案或测试图案。常见的图案包括光标、光刻对准图案和曝光i灯光控制图形、测试关键图形、光学对准目标图形、划线槽图形以及其他LOGO名称、版本等。

光罩（英文：Reticle， Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。

Reticle也称为Mask，翻译做光掩模板或者光罩，曝i光过程中的原始图形的载体，通过曝i光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版，一般是根据客户的要求做的，客户提供图纸我们加工

玻璃板-光刻版(图)由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）是从事“光电材料,光刻掩膜版”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供高质量的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：马经理。