HJH-3026 光刻胶清洗机 - 全天候商务网

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清洗原理：

用SPM清洗方式去除晶圆表面的光刻胶残留物。SPM具有很高的氧化能力，可将光刻胶的有机物氧化生成CO2和H2O，也能把金属氧化后溶于清洗液中。

主要工艺流程： SPM酸洗、QDR漂洗、超声清洗、溢流漂洗

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