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单面/双面对准光刻机

2023年12月08日 19:49

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型号

N

用途

光刻

单面/双面对准光刻机

美国ABM公司

应用于MEMS、硅片凸点、芯片封装以及化合物半导体、功率器件和LED图形化衬底市场。几乎涵盖了所有微电子领域微米或亚微米级芯片的光刻应用。

- 支持2”~8”，支持圆片、方片及碎片

- 曝光光源：近紫外或深紫外波长

- 曝光模式：支持真空、接近式和接触式

- 手动系统、半自动系统、自动对准系统

- 适合研发、量产多种需要

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