美国AJA ATC-IM系列离子束刻蚀系统

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AJA国际公司的ATC 离子束刻蚀系统用途广泛，可根据需求定制化配置。

根据用户应用特点，这些定制化系统采用了超高性能的基片支架和离子束源。腔室大小从直径10"-22"不等，还能够配置电脑控制系统，预真空室，自动 装 加载和可带光罩交换系统的6卡槽片盒站。这些系统的特点是具有独一无二的刻蚀平台设计，在相当广泛的工艺应用中它可以容纳直径为8”的样品，从微纳模式描绘到晶圆平展化。这些基片支架由AJA独立设计与生产，并且还有许多市场需要的功能特性可供选择，比如冷却，偏转和旋转系统。 针对冷却系统，我们可以提供多种方式，包括水冷，液氮和背部氦气或氩气结合冷却，带有同步旋转和偏转功能。AJA 生产并集成了大量的技术先进的有栅极，无栅和RF射频离子束源，能够很容易地配置到相应设备上，包括反应和惰性刻蚀工艺。这些离子束源能够根据您的需求安装，直接对准基片或成一定入射角。 致电可获更多详情。