真空电弧石英坩埚

产品描述： 该石英坩埚，透明层中没有气泡，采用特殊的加工技术，使得该产品在使用过程中，可以抑制不透明层中的气泡膨胀。适用于:半导体单晶硅的拉制。

高DF（成晶）率：石英坩埚的性能直接影响单晶硅的成晶率，当石英坩埚的表面产生失透时石英结晶片就会脱落，并黏着到单晶硅上从而降低单晶硅的成晶率。我们的石英坩埚不易产生失透，并具有以下两个特点：1）少气泡化2）内表面纯化该石英坩埚与普通石英坩埚使用后表面状态比较使用后的该石英坩埚切面图 使用后的普通石英坩埚切面图

二、表面高纯度化：我们使用高纯度石英砂原料，并且在严格的管理下进行高清洁环境下洗净，达到内表面高纯度化，具体数值见下表：石英坩埚表面20μm层的纯度分析值(ppm)： AlCaFeNaKaLiCu9.20.60.40.30.30.3 石英坩埚表面纯度(ng/cm2)： AlCaFeNaKaLiCu0.000960.001930.003850.000000.000000.000000.00000 另外，该坩埚是采用了使用坩埚内表面呈斑状结晶化的技术，使失透片不会脱落。（下图是使用后的该坩埚表面粗细数据与普通坩埚表面粗细数据的比较）

三、使用寿命长：采用了防止内表面石英失透片脱落的结晶化技术，使失透片不会脱落。可以长时间使用。使用后该坩埚内表面粗糙度数据 使用后普通石英坩埚内表面粗糙度数据 可根据客户不同的需求，订制不同尺寸的坩埚