靶材供应商_ITO靶材_众诚达应用材料公

深圳市众诚达应用材料科技有限公司专业生产磁控溅射靶材。磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年，还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道，而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶，即靶材与磁体之间无相对运动且靶材直接与冷却水接触的靶， 靶材利用率( 值) 数据多在20%~30%左右(间冷靶相对要高一些，但其被刻蚀过程与直冷靶相同，不作专门讨论)，且多为估计值。为了提高靶材利用率，研究出来了不同形式的动态靶，其中以旋转磁场圆柱靶最著名且在工业上被广泛应用，据称这种靶材的利用率可超过70%，但缺少足够数据或理论证明。常见的磁控溅射靶材从几何形状上看有三种类型：矩形平面、圆形平面和圆柱管。

深圳市众诚达应用材料科技有限公司专业供应溅镀金属靶材，优势产品为旋转铬靶，旋转硅铝靶，旋转二氧化钛管靶。主要应用于工具、五金、电子产品外壳的装饰性镀膜,平板显示器镀膜,建筑、汽车玻璃镀膜,太阳能光伏光热工业等。本公司采用先进的真空自动生产工艺，产品纯度高，含氧量非常低，密度高。