多弧磁控(中频)溅射真空镀膜机 真空溅射 镀膜机

产品说明： 多弧磁控(中频)溅射镀膜机是磁控技术另一新里程碑，作为目前国内外的中频孪生靶磁控溅射反应技术，在近几年得到了迅猛的发展，除了在制备金属膜时具有较高的稳定性外，在沉积氮化物、氧化物等介质膜时，解决了过去直流磁控溅射中弧光放电和阳极消失等问题，并具溅射速率快等优点，它能够在长时间内获得较高的沉积速率和维持稳定的镀膜状态。一种中频反应磁控溅射设备二氧化硅膜设备，包括真空镀膜室、双靶、反应气体供气管道、工作气体供气管道、中频电源、压电阀控制器和压电阀，双靶装在屏蔽罩内，真空镀膜室内的反应气体供气管道位于双靶的对称中心线上，中频电源的两个输出端各接到一个靶上，中频电源的控制线压电阀控制器，压电阀和反应气体供气管道构成闭环控制回路。

本实用新型提供了一种能使靶面处于过渡状态，既能保证膜层的成分，又具有足够高的沉积速率，实现闭环控制的中频双靶反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备。适合镀制铟锡合金（ITO）、氧化铝（AL203）、二氧化硅（SiO2）、氧化钛（TiO2）、氧化硅（Si3N4）等，配置多个靶及膜厚仪可镀制多层膜。

RD系列多弧磁控(中频)溅射镀膜机主要技术参数 型号RD-660RD-800RD-1000RD-1200RD-1250工作室尺寸Φ660X900Φ800X1000Φ1000X1000Φ1200X1250Φ1250X1500可镀工件Φ120X700 (6轴)Φ110X700 (8轴)Φ120X850 (6轴)Φ250X1100 (6轴) Φ270X1300 (6轴)脉冲偏压电源（KW）612 12 20 20加热功率（KW912122020配置电弧源（个）6个6个8个10个14个极限压力（Pa）6.7X10-4抽气时间空载从大气至5-10-3Pa≤15分钟真空机组配置旋片泵.滑阀泵.罗茨泵.维持泵.扩散泵名义总功率（KW）656888108130备注可根据客户要求进行特别设计订做