钼铌合金靶材

靶材在溅射沉积技术中用作阴极的材料，该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形式脱离阴极而在阳极表面重新沉积。

宝鸡科迪普公司从2008年开始投入巨资，自主研发钼铌合金靶材，这几年重点对钼铌合金的研发已经形成了市场，大量应用在平面显示、手机触摸、光伏光电子等行业，并于2013年取得了国家发明证书（ZL 2013)，并申报国际，目前在美国、日本、韩国已经成功注册。

目前FPD所用的ITO最终烧成的靶材应该是单一的三氧化二铟相结构。所采用的工艺基本上是热等静压和热压，这是目前国际上生产ITO靶材的主流工艺，韩国目前只有三星一家，其技术主要来源于日本，产品一部分采用STN，但主要用于TFT液晶生产，但其产品仍有缝隙（空洞）。