磁控溅射镀膜机 NSC-4000 Sputter

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机：先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关，RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点：

· 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔

· 70，250或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

· 13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

· 晶振夹具具有的