MEMS三维形貌仪

'三维MEMS形貌仪

主要特点

长工作距离确保足够的MEMS测试探针操作空间

全窗口范围测量

标准5X、10X、20X物镜

纳米级分辨率

价格适中

配置灵活

满足专业微系统研究人员测试需求

MEMScriptTM软件,可实现三维MEMS形貌测试，控制MEMS器件，分析器件特性，实时器件性能测量。

MEMScript 软件特点

相移干涉三维形貌测量(PSI)

振动波输出

Decision making capability (full logical branching)

频闪检查成像功能

简洁用户界面

光源亮度自动设定

提供GPIB外部设备控制界面

提供串口外部设备控制界面

兼容IntelliwaveTM软件

MATLAB, IDL, MS Excel,and LabVIEW软件界面

电压放大器选件 真空源&快门控制选件

定位物镜选件 垂直扫描VSI测量选件

大范围扫描,闭环控制

Optopro 622-A技术规格 技术长工作距离干涉显微镜 系统 测试波长532 nm非相干光源 放大倍率5X, 10X, 20X 相机1/2" B&W Digital Camera 探针显微定位单元Signatone (QTY:4) 电压放大器EMOpto 4-channel (optional) 防震台Vibraplane 真空/快门VacPak Part Viewing实时视频显示器显示 物镜 放大倍率5x10X20X 数值孔径0.140.280.42 工作距离(mm)34.033.520.0 聚焦长度(mm)402010 分辨率(µm)2.01.00.7 聚焦深度(µm)14.03.51.6 面内分辨率(nm)20105 聚焦分辨率(nm)+/- 5+/- 5+/- 5 市场1- V x H(mm)1.32 x 1.800.66 x 0.880.33 x 0.44 Note 1: for 2/3 inch CCD. 电子控制单元 功率Powered from Computer 机械设计 尺寸762 mm x 610 mm x 762 mm (30" x 24" x 30") 重量68 kg (150 lb) 环境要求 温度范围15 to 30ºC 温度变化率<1.0ºC per 15 min 湿度Relative 5% to 95%, no condensing 防震 控制系统 计算机Dell PC 控制界面National Instruments 软件MEMScriptTM

经济型MEMS三维形貌仪 模块化MEMS三维形貌仪

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