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一氧化硅可由二氧化硅在高温下与单质硅作用后迅速冷却制得。SiO，白色立方晶体；熔点＞1702°C，沸点1880°C，密度2.13克/厘米3。

一氧化硅不太稳定，在空气中会氧化成二氧化硅；易溶于强碱溶液，生成硅酸盐并放出氢气。硬度与硅相同，可由硅粉与二氧硅在高温高真空下升华制的。

折射率：1.55/550nm；透光范围：600-8000；蒸发温度：1200-1600℃

应用领域

用于光学玻璃和电子工业；精细陶瓷原料；制造半导体材料；增透膜、保护膜,电池材料。固态一氧化硅可作绝缘材料。作为精细陶瓷原料具有重要价值

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