RC-M92半光亮镍电镀工艺

1.工艺特点: RC－M92半光亮镍工艺是专门为防腐蚀性能要求高的电镀件而设计，是双层镍或多层镍系统电镀中的半光亮镍底层。 镀层含硫量低于0.003%,半光亮镍层与光亮镍层电位差达120-145mv,耐蚀性极好; 镀层柔软性好,覆盖能力强,填平效果极佳; 光亮剂浓度高,消耗量小; 不含香豆素,分解产物少,镀液稳定,容易维护，降低了废水处理和活性碳处理的成本。. 2.镀液组成及操作条件:

镀液组成及工艺条件 适用范围 一般开缸用量 硫酸镍 240-300克/升 270克/升 氯化镍 45-55克/升 50克/升 硼酸 40-50克/升 45克/升 RC-M91柔软剂 4-6毫升/升 5毫升/升 RC-M92整平剂 0.4-0.8毫升/升 0.6毫升/升 RC-M93稳定剂 0.4-0.8毫升/升 0.6毫升/升 半光亮镍湿润剂 1-2毫升/升 1.5毫升/升 温度 45-55℃ 50-55℃ PH值 4.0-4.8 4.3 电流密度 2-6安培/平方分米 4安培/平方分米 搅拌方式 空气或机械搅拌 空气或机械搅拌 过滤方式 连续循环过滤 连续循环过滤