真空镀膜磁控溅射靶材、ITO磁控溅射靶材

日本的科学家采用 B i zo 作为 添加剂，B i 2 O3 在 8 2 0 C r 熔化，在 l 5 0 0℃的烧结温度超出部分已经挥发，这样能够在液相烧结条件下得到比较纯的 I T O靶材。而且所需要的氧化物原料也 不一定是纳米颗粒，这样可以简化前期的工序。采川

这样的靶材得到的 I T O 薄膜的屯阻率达到 8 ． 1 ×1 0 n- c m，接近纯的 I T O薄膜 的电阻率。F P D和导电玻璃的尺寸都相当火，导电玻璃的宽 度甚至可以达到 3 1 3 3 _ ，为了提高靶材的利用率，开发 了不同形状的I T O靶材，如圆柱形等。2 0 0

0年，国家 发展计划委员会、科学技术部在《 当前优先发展的信 息产业重点领域指南》中， I T O大型靶材也列入其中。深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的靶材应用于平板显示与触控行业。

为确保品质的提升，以及降低成本，实际上部分镀膜厂商对靶材之研发投入也不遗余力，靶材厂商也是镀膜厂合作的对象，而且生产使用的靶材也都是由镀膜厂商自行测试、决定，

但目前，美国、德国、日本等靶材主要生产国已经形成优势产业链，初期的测试AZO靶材多为进口国外靶材厂商的靶材。相对于整体生产成本，靶材具关键角色但又占极低成本比例的产品而言，初期没有太大的诱因促使镀膜厂商想改用国产靶材，但随着生产的稳定，以及国内靶材厂商的成长。深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的AZO靶材,国际化品质，本土化价格，为镀膜客户推进国产AZO靶材替代进口AZO靶材的提供了稳定的选择。