高纯钒，钒粒，钒板，钒靶材，钒丝，钒片，钒粉

磁控溅射靶材

薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材）

高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶Al，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，硅靶Si，锗靶Ge，

铌靶Nb，钛钯Ti，铟靶In，银靶Ag，锡靶Sn，石墨靶C，钽靶Ta，钼靶Mo，金靶Au，

铪靶Hf，锰靶Mn，锆靶Zr，镁靶Mg，锌靶Zn，铅靶Pb，铱靶Ir，钇靶Y，铈靶Ce，

镧靶La，镱靶Yb，钆靶Gd，铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。

高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶MgO、氧化钇靶Y2O3，

氧化铁靶Fe2O3,氧化镍靶Ni2O3，氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化镉靶CdS，

硫化钼靶MoS2，二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化锆靶ZrO2、五氧化二铌靶Nb2O5、

二氧化钛靶TiO2,二氧化铪靶HfO2，二硼化钛靶TiB2，二硼化锆靶ZrB2，三氧化钨靶WO3，

三氧化二铝靶Al2O3，五氧化二钽靶Ta2O5、氟化镁靶MgF2、硒化锌靶ZnSe、氮化铝靶AlN，

氮化硅靶Si3N4，氮化硼靶BN，氮化钛靶TiN，碳化硅靶SiC，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、

钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.

备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶Ni-V，镍铬合金靶Ni-Cr，钛铝合金靶Ti-Al，硅铝合金靶Si-Al，铜铟合金靶Cu-In，铜镓合金靶Cu-Ga，铜铟镓合金靶Cu-In –Ga，铜铟镓硒靶Cu-In –Ga-Se，不锈钢靶，锌铝合金靶Zn-Al，钨钛 W-Ti，铁钴 Fe-Co，白铜靶等高纯合金溅射靶材。

备注：CNM生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

真空镀膜材料

（镀制：复合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，气敏传感器膜，高温介质膜，光学膜，激光装置滤光片，保护膜，透明导电膜，变色膜，优良的宽带增透膜，磁性薄膜，可见光区增透膜，红外增透膜，分光膜，多层膜，高反射膜，电阻膜，热反射膜，冷光膜膜）

高品质真空镀膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,

一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3

等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化钕NbF3,氟化钡BaF2，氟化铈CeF3，氟化镁MgF2，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，

氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，

钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫化镉CdS等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，

高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，

金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟镓合金CuInGa，

铜铟镓硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。

备注：CNM生产的真空镀膜材料均通过SGS认证，纯度高，溅点少，放气量小，薄膜均匀，附着力强，抗腐蚀性强，颜色均匀 等优点。

高纯材料（产品广泛应用于半导体和电子行业的基础材料，光学，航天，原子能工业，电子，光电子，太阳能电池，装饰，合金添加剂等各类科学研究和工业生产领域）1.高纯金属(纯度：3N-8N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)：

高纯铝,高纯铜，高纯铬，高纯钴，高纯金，高纯银，高纯铂，高纯铪，高纯钨，高纯钼，

高纯硅，高纯锗，高纯锰，高纯镁，高纯铌，高纯锡，高纯锌，高纯钒，高纯铁，高纯钛

，高纯锆，高纯碲，高纯镍，高纯钽，高纯镓，高纯铟，高纯钯，高纯铼，高纯镧,高纯镨,

高纯铈，高纯钆,高纯铱，高纯铑，高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥，高纯铕，高纯钬，

高纯铽等高纯金属材料。

2.高纯氧化物(纯度：3N-6N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)：

一氧化硅，SiO,二氧化硅，SiO2，二氧化铪，HfO2,二氧化锆，ZrO2,一氧化钛,TiO，二氧化钛，

TiO2,三氧化二钛，Ti2O3,五氧化三钛，Ti3O5，五氧化二钽，Ta2O5，五氧化二铌，Nb2O5，

三氧化二铝，Al2O3,三氧化二钪，Sc2O3，三氧化二铟，In2O3,二氧化铈，CeO2，氧化镁，MgO,

三氧化钨，WO3，氧化铜,CuO,氧化铁,Fe2O3,氧化钐，Sm2O3，氧化钕，Nd2O3，氧化镧，La2O3，

氧化钇，Y2O3，氧化镱，Yb2O3，氧化钆，Gd2O3,氧化镥，Lu2O3,氧化铽，Tb2O3，氧化钬，Ho2O3，

氧化铕，Eu2O3，氧化铥，Tm2O3,氧化铒，Er2O3，氧化铋，Bi2O3，氧化镨，Pr6O11，氧化锑，Sb2O3，氧化钒，V2O5，氧化镍，NiO,氧化锌，ZnO,氧化铬，Cr2O3，氧化锶，SrO等高纯氧化物

3.高纯氟化物(纯度：3N-6N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)： 氟化镝DyF3，氟化钕NdF3，氟化钾KF，氟化锶SrF2，氟化钠NaF，氟化钡BaF2，氟化铅PbF2，氟化铝AlF3，氟化铈CeF4，氟化镁MgF2，氟化钐SmF3，氟化钕F3Nd，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化轧，氟化镥LuF3，氟化铽TbF3，氟化铥TmF3，氟化铒，氟化镨等高纯氟化物4.其他化合物（(纯度：3N-6N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)：

碳化锆，ZrC,碳化铪，HfC,碳化硅，SiC,碳化硼，B4C碳化钨WC，碳化钛,TiC,等碳化物。

硫化铜，CuS,硫化镉，GdS,硫化锌，ZnS,硫化钼，MoS,硫化锡SnS,等硫化物.氮化钛，TiN,氮化铝，AlN,氮化硅，Si3N4，氮化硼BC,等氮化物.二硼化锆，ZrB2二硼化钛，TiB2，二硼化铪，HfB2，氯氧化锆，氯氧化铪，四氯化锆，四氯化铪，硫酸氧钛，钛酸钡，钛酸锶，钛酸镧，钛酸镨，二硅化钼，硒化锌，AZO，IGZO，ITO等化合物.

备注：CNM高纯材料采用化学精炼法，电解精炼法，电子书熔炼，区间熔炼，萃取精炼法，控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺，湿法提纯，化学提纯。材料：纯度高，性能稳定，延展性好，耐腐蚀性能优良，放射性元素含量低，强度高，具有良好的加工性能。