深圳维尔克斯光电有限公司
主营产品:分析仪器
2023年12月21日 15:24
产地 |
丹麦 |
品牌 |
NILT |
型号 |
NILT纳米压印模板 |
订货号 |
ARSS_B_06 |
材质 |
包括硅、石英、聚合物、镍、PDMS |
货号 |
Standard Stamp |
尺寸 |
可咨询 |
反射率 |
可咨询 |
光洁度 |
可咨询 |
类型 |
可咨询 |
入射角 |
可咨询 |
重量 |
可咨询 |
规格 |
可咨询 |
NILT纳米压印模板,掩膜标准品,微加工掩膜,NILT纳米压印掩膜,热压印模板, NIL
型号:ARSS_B_06
抗反射掩膜,增光掩膜,衍射光栅模板,NILT纳米压印模板、掩膜、标准模板
丹麦NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 公司除了提供纳米压印机外,还供应各类材质,各类功能的压印模板,掩膜。
NILT通过纳米压印机的热模压、滚印、注射模塑和紫外压印等不同的工艺,能生产制造出各类不同功能的掩膜/模板。其中标准的压印掩膜(模板)根据功能的不同,分为抗反射掩膜,增光掩膜,衍射光栅模板,金属线栅偏光镜标准模板,微针体标准母膜,大面积柱形标准母膜,微图形标准模板 (MICRO),亚微米标准模板。
标准压印掩膜(Standard Stamp)
NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)
抗反射膜模板的特点是以大面积为主;适用于可见光范围和近红外范围,反射率可减低到 0.2% 规格Type BType AType CType NIR模板型号ARSS_B_06ARSS_A_02ARSS_C_02ARSS_NIR_02材质NickelNickelNickelNickel光栅类型Hexagonal ArrayHexagonal ArrayHexagonal ArrayHexagonal ArrayPitch300 nm250 nm250 nm500 nmAverage height300 nm350 nm350 nmLarger than 700 nm模板厚度300 µm300 µm300 µm300 ?m模板尺寸70 mm x 70 mm120 mm x 120 mm250 mm x 250 mm100 mm x 100 mm有效面积50 mm x 50 mm100 mm x 100mm 200 mm x 200 mm80 mm x 80 mmExpected %R PMMALess than 0.6%Less than 0.2%Less than 0.2%Less than 0.2%
Less than 0.3%Pattern polarityProtrusionsProtrusionProtrusionsHoles
NIL衍射光栅模板 (DIFFRACTION GRATINGS)
衍射光栅采用镍材质模板,表面纹路分为线状或交叉状两种,平均深度为250nm,线距为500nm。适合用于:LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING,将不同光导入波导WAVEGUIDE,光学分束,镭射感应器,薄膜行业和太阳能光伏等。
特点:
纹路形状呈正弦曲线SINUSOIDAL ,纹路的参数也不同
80 x 80mm有效面积(模板面积为100 x 100mm)
规格:规格Linear GratingCrossed grating模板型号DG_L500DG_C500材质NickelNickelProfile shapeSinusoidalSinusoidalPitch500 nm500 nmAverage depth250 nm250 nm模板厚度300 µm300 µm模板尺寸100 mm x 100 mm100 mm x 100 mm有效面积80 mm x 80 mm80 mm x 80 mm
NIL金属线栅偏光镜模板(WIRE GRID POLARIZER)
一般金属线栅偏光镜制造出来后需要经过一定测试,而NILT通过纳米压印生产出金属线栅偏光镜的标准模板,可避免频繁的测试,免去因测试所造成的成本。标准模板的线呈槽状,槽宽、槽距均为50nm,模板的有效面积可达12 x 12mm, L/S 50nm,模板复制子模适用于UV或热压过程。
规格:规格Type AType B模板型号WGPSS_A_V1WGPSS_B_V1模板尺寸2 inch round wafer with flat2 inch round wafer with flat材质SiliconSilicon有效面积12 mm x 12 mm6 mm x 6 mm模板厚度500 µm +/- 25 µm500 µm +/- 25 µm结构类型50 nm wide grooves with 50 nm spacing50 nm wide grooves with 50 nm spacing横向公差+/- 10 nm+/- 10 nm结构深度100 nm100 nm垂直公差+/- 15 nm+/- 15 nm缺陷密度Less than 0.01% of patterned areaLess than 0.01% of patterned area
NIL微针体标准模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)
NILT提供的微针体标准模板的特点是特点:1. 微针呈正方形排列相隔500um; 2. 有效面积达70mm(斜角计)
微针体模板可经热压或铸造出所需微针形状,可利用模板采用镍片注塑而成。标准模板造出的微针体有足够硬度可用于皮肤的不同测试,医学方面可应用的涂药式微针或注射式微针。
规格:规格Micro-needle - Type A模板型号MNSS_A_V1材质Silicon微针布局Square array微针基本尺寸100 µm x 100 µm微针高度200 µm (base to tip)微针尖端高度70 µm微针尖端曲率半径~1 µm微针间距500 µm模板尺寸100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat)模板厚度525 µm (SEMI standard wafer with a flat)有效面积70 mm diagonal square area in the center
NIL精工增光掩膜 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)
NILT的精工增光掩膜可精准控制增光度,形状可选择直线、椭圆形和圆形,定制性强,面积可达 120x 120mm。它的功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量。例如镭射、LED、LCD的背光源,而同时拥有很高的透光率。
规格
Circular versionType BType D模板型号EDSS_B_C_V1EDSS_D_C_V1结构类型Engineered DiffuserEngineered Diffuser输出类型Circular diffusionCiruclar diffusionDiffusion angles (FWHM)*25°25°材质NickelNickel模板厚度300 µm300 µm模板尺寸70 mm x 70 mm120 mm x 120 mm有效面积50 mm x 50 mm100 mm - 100 mm
NIL大面积柱形标准模板 (LARGE AREA PILLARS)
大面积柱形标准模板采用光子晶体结构,是以方形排列光子晶体并分布在4个1平方米的格子的硅晶圆上。
可选4种不同规格的大面积柱形模板,结构尺寸在125 – 275nm之间,
规格:规格
模板型号LAPSS_V1模板尺寸2 inch round wafer材质Silicon厚度525 µm +/- 25 µm结构尺寸125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares)Structure pitch200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nmProtrusion height100 nm - 300 nm (you decide!)Tolerance, lateral and vertical dimensions+/- 15%缺陷密度Less than 0.1% of total patterned area
NIL亚微米标准模板 (SUB-MICRO)
亚微米标准模板的图形有3种,包括线(500nm)、柱(1um)、孔(2um),是专门为测试亚微米至纳米级压印而设计的,材料可选择硅或石英,标准尺寸为 20 x 20mm。
规格:模板型号MSS_V1模板尺寸20 mm x 20 mm材质Silicon厚度1 mm结构尺寸1 µm - 50 µmEtch depth2 µm, 5 µm or 10 µmPattern field size4 mm x 4 mm交期3-4 weeks
NIL微图形标准模板 (MICRO)
微图形标准模板有4种图形,包括直线、横线、柱状和孔状,其尺寸为1um, 5um, 10um, 50um呈现在20mm x 20mm硅晶圆片上。
规格:模板型号SMSS_SIQZ_V1模板尺寸20 mm x 20 mm材质Silicon or Fused Silica厚度1 mm结构尺寸500 nm - 2 µmEtch depth1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused SilicaPattern field size5 mm x 5 mm交期3-4 weeks
微透镜阵列模板
NILT提供带凹面或凸面微透镜阵列的纳米压印模板,用于通过热压印或注塑成型生产聚合物微透镜阵列。
材质一般采用熔融石英或镍制成。
NILT可以独立的控制镜头深度、高度和宽度,因此可以在压印模板上制作任何抛物面镜片形状。
压印模板的直径可达150mm,镜头尺寸从300nm-400μm,还可以提供具有凸透镜和凹透镜阵列的聚合物材质复制品。微透镜阵列压印模板压印模板尺寸可达150 mm压印模板材质熔融石英或镍微透镜尺寸300 nm - 400 µmSAG可达 50 µmLens arrangementsHexagonal closed packedSquare and hexagonal, not closed packedLenticular
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