供应紫外曝光机

韩国制造的紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。 系统组件： 紫外光源构造 带托盘的晶片工作台 配CCD镜头的显微镜 监视器 掩膜夹具 紫外光源透镜 紫外光源镜片 紫外灯电源系统 操作控制器 350W紫外灯 参数： 晶片台 基底尺寸 标准尺寸 至4英寸；可选至6英寸； 托盘 标准尺寸 至4英寸；可选至6英寸； 活动范围 X：10mm Y： 10mm Z ： 10mm Theta： 4 degree 对准精度 1um 挤入补偿 Air bearing型 Z轴滑动 手动 真空泵 无油真空泵 掩膜台 掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取 紫外光源 紫外灯 350 瓦 均匀光束大小 4.25“ X 4.25“ 曝光模式 压缩/真空/相邻 曝光时间控制 可编程控制型 曝光定时器 1 ~ 999.9 秒