伯东公司供应KRI 考夫曼离子源 KDC 75

KRI 考夫曼离子源 KDC 75

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 75 技术参数型号KDC 75 / KDC 75L(低电流输出)供电DC magnetic confinement- 阴极灯丝2- 阳极电压0-100V DC电子束OptiBeam™- 栅极专用, 自对准-栅极直径7.5 cm中和器灯丝电源控制KSC 1212 或 KSC 1202配置-- 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000- 安装移动或快速法兰- 高度7.9'- 直径5.5'- 离子束聚焦

平行

散设-加工材料金属

电介质

半导体-工艺气体惰性

活性

混合-安装距离6-24”- 自动控制控制4种气体* 可选: 一个阴极灯丝; 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 75 应用领域

溅镀和蒸发镀膜 PC

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE

客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置

美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75

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