KRI 考夫曼离子源 KDC 40伯东公司代理

KRI 考夫曼离子源 KDC 40

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数型号KDC 40供电DC magnetic confinement- 阴极灯丝1- 阳极电压0-100V DC电子束OptiBeam™- 栅极专用, 自对准-栅极直径4 cm中和器灯丝电源控制KSC 1202配置-- 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000- 架构移动或快速法兰- 高度6.75'- 直径3.5'- 离子束集中

平行

散设-加工材料金属

电介质

半导体-工艺气体惰性

活性

混合-安装距离6-18”- 自动控制控制4种气体* 可选: 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域

溅镀和蒸发镀膜 PC

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐

T: + T: +ext 161

F: + F: +

M: +6 M: +

www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw

伯东版权所有, 翻拷必究!