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RIE反应离子刻蚀机-FA2000

2023年11月04日 13:09

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品牌	BSET EQ	型号	FA-2000
用途	FA-2000 反应离子刻蚀机主要用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、能源等领域的器件研发和制造。	外形尺寸	详见说明（mm）mm（mm）
别名	反应离子刻蚀机RIE	输入电压	详见说明（V）（V）
电解液导电质	详见说明	品牌/型号	BSET EQ/FA-2000

FA-2000反应离子刻蚀机（RIE）

FA-2000反应离子刻蚀机（RIE）主要用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料、能源等领域的器件研发和制造。

应用:

器件/IC 的表面打开及内部钝化层的去除。

主要特征：

用户有好界面: 系统的状态、无限的程序存储和屏显示过程都是标准的配置

优秀的腔体设计: 四方的进气模块为反应气体提供了均一的导电系数和对晶元较高的刻蚀速率

13.56兆赫300瓦的射频发生器

6吋的电极可以容纳150毫米的晶园

微处理器控制，无限存储量

0.4吋薄膜晶体管显示器, 结果可打印机及传到外接显示器.

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