真空镀膜机电源

可适用于PVD、CVD技术以金属、半导体靶材制备高密度、高硬度、高亮度、高透明度的单质、化合物膜层。

特点：

1. 采用先进的逆变技术和IGBT功率开关器件设计

2. 采用PWM控制技术、恒流特性好、电流控制精确

3. 自动恒流输出，不随气压变化，提高沉积速率，工艺重复性好

4. 克服靶中毒，抑制靶材弧光放电及抗短路功能，内置电子电抗，具有极佳的负载匹配能力

5. LED数码电流、电压显示、清晰直观

6. 轻巧、高效、节能。同等功率比可控硅电源节约电能40%以上

7. 模块化设计、全系列产品风冷长期稳定性好，可N+1备份、保障安全生产

8. 可根据用户量身定做设计制造特种电源系统

主要技术项目：型号Type

项目ItemRTS-PL10kwRTS-PL20kwRTS-PL30kwRTS-PL40kw输入电源电压频率（V、Hz）三相四线AC380+N

+15%,50/60AC380+N

+15%,50/60AC380+N

+15%,50/60AC380+N

+15%,50/60占控比（%）10~9010~9010~9010~90输出电流调节范围（A） 0～150～300～450～60稳流精度1%1%1%1%额定输出电压（DCV）200～1000200～1000200～1000200～1000负载持续率（%）85858585重量（KG）25354070外形尺寸（mm）650(D)×480(W)×250(H)860(D)×600(W)×600(H)绝缘等级BBBB效率（%）90909090功率因数COSΦ0.930.930.930.93外壳防护等级Ip21Ip21Ip21Ip21工作模式恒压、恒流、恒功率可任意选择，常规恒流输出外部接口本系列产品，均可设微机式PLC控制