供应台式等离子清洗机

台式/立式等离子清洗机-NT-1/-2

应用:

半导体IC; SMT; LCD等制造过程中表面清洁和表面改善功能.去除外表面残留的光刻胶, 有机污染物, 溢出的环氧树脂等; 还可以对表面的性能进行活化, 增加表面的焊接及封装能

力…. 它可以用于生产制造过程中, 也可以用于FA或QA实验室中.

主要特征：

1 独特的腔体设计；

2 提供的洁净空间和均匀的等离子分布；

3 使用友好的控制操作界面；

4 可进行菜单式操作和控制；

5 全部参数都时实地显示在设备的屏目上：可随时根据系统状况，进行系统诊断和操作

NT-1 参数:

尺寸(英尺): 26L X 14W X14H

重量: 120LBS

设备腔体内部尺寸: 9W X 9H X 12L (UPTO 4 SHELVES)

发动机: 300 or 600 Watt

泵: 3.2CFM 11CFM

操作控制: 单机板控制, 无限量数据存储; TFT 显示操作系统, 更方便的与外接, 结果方便输出/存储及处理.

NT-2 参数:

尺寸(英尺): 28L X 26W X26H

重量: 140LBS

设备腔体内部尺寸:12W X 12H X 20L (UPTO 8 SHELVES)

发动机: 600 or 100 or 1500 Watt @13.50 MHZ or 40KHZ

泵: 27 or 50 or 90 CFM

操作控制: 单机板控制, 无限量数据存储; TFT显示操作系统, 更方便的与外接, 结果方便输出/存储及处理.

台式/立式等离子清洗机-NT-3

设备应用:

半导体/集成电路；SMT；LCD行业中样品表面清洁:去除光刻胶；去除光掩膜杂质；有机粘污;氧化物污染及表面的灰尘等；还可能对表面进行活化；在生产线；FA或QA和R&D中被广

泛应用。

主要特征：

1 独特的腔体设计；

2 提供的洁净空间和均匀的等离子分布；

3 使用友好的控制操作界面；

4 可进行菜单式操作和控制；

5 全部参数都时实地显示在设备的屏目上：可随时根据系统状况，进行系统诊断

NT-3 参数:

尺寸(英尺): 30L X 32W X32H

重量: 160LBS

设备腔体内部尺寸:18W X 18H X 24L (UPTO 12SHELVES)

发动机: 600 or 100 or 1500 Watt @13.50 MHZ or 40KHZ

泵: 27 or 50 or 90 CFM

操作控制: 单机板控制, 无限量数据存储; TFT显示操作系统, 更方便的与外接,结果方便输出/存储及处理.