外热式硅基负极材料专用CVD包覆工艺回转炉

产品介绍：外热式硅基负极材料专用CVD包覆工艺回转炉。

设备介绍：

用途：该设备专业应用于硅基负极材料的气相沉积法的包覆

（1） 该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司自主设计的专业应用于硅基负极气相沉积法

（2） 该设备使用客户众多

（3） 该设备经过实践验证，运行稳定

（4） 该设备比别的设备同等工艺做出来的材料品质高20%以及以上

（5） 该设备一致性好，经过长期验证，做出来的材料品质变化较小

（6） 该设备经过大量客户的反馈，我司可以不用去人到现场的情况下恢复设备*初品质

技术介绍：

（1）该设备采用电加热（380V50HZ）

（2）设备采用PLC控制模式

（3）设备耐火材料全部选取高档的氧化铝纤维，热效率高

（4）设备采用动态加热技术，更好的匹配硅基负极CVD包覆过程中的工艺要求

（5）该设备采用鸿峰公司专利密封方式，密封性优良

（6）该设备采用多点测温，多点控制。可以实时确认温度

（7）该设备为连续式生产设备

（8）可以实现在高温惰性气体环境下烧结。鸿峰公司设计的专用炉的结构密封相较于国内其它设备公司更加优良，相比别的回转炉使用范围更为广泛

鸿峰HF-RZ40.100间歇式CVD设备5公斤实验炉，进料5公斤，出料4.4公斤，现场客户确认出料情况，包覆效果良好，客户理化实验检测，达到预期效果

温度范围 1000度

功率 12KW

加热方式 外热式

型号 HF-RZ20.60

用途 应用于硅基负极材料的气相沉积法的包覆

工作压力 0.01MPa

物料状态 设备适用于物理状态为粉末或颗粒状的物料焙烧

设备工作区尺寸 Ø200mm×L600mm（间歇式进料烧结）

设备炉管转速 0-2.5rp/min

设备控温区数量 六区