日本PT100薄膜铂电阻

薄膜铂电阻的详细介绍薄膜铂电阻

高精度：精度0.15度可以修正到0.1度

测温范围：-50~200；-50~400；-50~600范围宽广

100 /1000Ω阻值可供选择

工作稳定；

尺寸小

反应速度快

薄膜铂电阻选型表

型号外形尺寸

W×L×Hmm标称阻值

R0工作电流

mA引线尺寸

W×L×Hmm工作温度

℃误差外形图

mmUTQ-1632-Ni

1.6×3.2×1.0

100Ω10.25×0.15×12-40~450

1/3DIN

A

B

2BUTQ-1632-Pd0.3×0.2×10-50~500UTQ-2005-Ni

2.0×5.0×1.020.25×0.15×12-40~450UTQ-2005-Pd0.3×0.2×10-50~500UTQ-2005-Ni500Ω

1000Ω0.50.25×0.15×12-40~450UTQ-2005-Pd0.50.3×0.2×10-50~500

备注： 1/3DIN ±0.1℃

A ±0.15℃

B ±0.3℃

2B ±0.6℃

薄膜铂电阻原理: 用真空沉积的薄膜技术把铂溅射在陶瓷基片上，膜厚在2μm以内，用玻璃烧结料把Ni(或Pd)引线固定，经激光调阻制成薄膜元件。