PVA TePla 射频等离子体去胶机—IoN 40

PVA TePla 射频等离子体去胶机

——PVA TePla 跨国型企业，40年等离子体设备经验

PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。

型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )

典型应用：

 去除光刻胶

Photo-resist Stripping

 表面精密清洁

Surface Precision Cleaning

 表面活化

Surface Modification

 提高表面粘合性

Bond Strength Enhancements

 改变表面亲水性/疏水性

Hydrophilic/Hydrophobic

 分子接枝

Molecular Grafting

 涂层

Plasma Deposited Coatings

规格参数：

腔体材质：铝

13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W），

自动匹配

铝制腔体，多层水平可抽卸托盘

模块化设计，可更换水冷极板，垂直极板，料盒极板

多至6路气体，MFC控制

兼容8英寸及以下晶圆

PC工控机控制，运行数据自动存储，分级密码权限管理

图形化可视控制界面

可选配温控板

可选配法拉第桶

可选配压力控制系统

外形尺寸：775×723×781 mm

认证：

CE 认证

EN 61010

EN 61326

Semi E95ISO 9001

CISPR 55011